国产突破，清洗设备龙头首款KrF前段涂布显影机出货！
晶圆在进入光刻机之前，需要先在表面均匀涂上一层光刻胶，再经过涂布、预烘烤、显影和后烘烤等环节，让光刻图案能够被准确显现出来。
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盛美上海首台高产出Ultra LITH KrF顺利交付中国头部逻辑晶圆厂！
9月8日，盛美半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“盛美上海”）宣布推出首款自主研发的高产出KrF工艺前道涂胶显影（Track）设备Ultra LITH KrF，并宣布该设备已于9月成功交付中国头部逻辑客户！高产出Ultra LITH KrF的问世，是盛美
盛美上海首台高产出Ultra LITH KrF顺利交付中国头部逻辑晶圆厂！前道Track版图再扩展
9月8日，盛美半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“盛美上海”）宣布推出首款自主研发的高产出KrF工艺前道涂胶显影（Track）设备Ultra LITH KrF，并宣布该设备已于9月成功交付中国头部逻辑客户！高产出Ultra LITH KrF的问世，是盛美